Ang SLA (Stereolithography) ay isang proseso ng paggawa ng additive na gumagana sa pamamagitan ng pagtuon ng isang laser ng UV sa isang VAT ng photopolymer resin. Sa tulong ng computer aided manufacturing o computer aided design (CAM/CAD) software, ang UV laser ay ginagamit upang gumuhit ng isang pre-program na disenyo o hugis hanggang sa ibabaw ng photopolymer VAT. Ang mga Photopolymers ay sensitibo sa ilaw ng ultraviolet, kaya ang dagta ay photochemically solidified at bumubuo ng isang solong layer ng nais na 3D object. Ang prosesong ito ay paulit -ulit para sa bawat layer ng disenyo hanggang sa kumpleto ang 3D na bagay.
Maaaring mag-alok ang Carmanhaas ng customer ng optical system na higit sa lahat ay may kasamang mabilis na galvanometer scanner at f-theta scan lens, beam expander, salamin, atbp.
355nm Galvo Scanner Head
| Modelo | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Tubig cool/selyadong scan head | Oo | Oo | Oo |
| Siwang (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Mabisang anggulo ng pag -scan | ± 10 ° | ± 10 ° | ± 10 ° |
| Error sa pagsubaybay | 0.19 ms | 0.28ms | 0.45ms |
| Oras ng pagtugon sa hakbang (1% ng buong sukat) | ≤ 0.4 ms | ≤ 0.6 ms | ≤ 0.9 ms |
| Karaniwang bilis | |||
| Pagpoposisyon / Tumalon | <15 m/s | <12 m/s | <9 m/s |
| Linya ng pag -scan/raster scan | <10 m/s | <7 m/s | <4 m/s |
| Karaniwang pag -scan ng vector | <4 m/s | <3 m/s | <2 m/s |
| Magandang kalidad ng pagsulat | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Mataas na kalidad ng pagsulat | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Katumpakan | |||
| Pagkakaugnay | 99.9% | 99.9% | 99.9% |
| Paglutas | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Pag -uulit | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Temperatura naaanod | |||
| Offset naaanod | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Qver 8hours Long-Term Offset Drift （Pagkatapos ng 15min Warn-Up） | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Saklaw ng temperatura ng operating | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Signal interface | Analog: ± 10V Digital: XY2-100 Protocol | Analog: ± 10V Digital: XY2-100 Protocol | Analog: ± 10V Digital: XY2-100 Protocol |
| Kinakailangan ng Power Power (DC) | ± 15V@ 4A MAX RMS | ± 15V@ 4A MAX RMS | ± 15V@ 4A MAX RMS |
355nmF-teta Lenses
| Bahagi ng paglalarawan | Haba ng focal (mm) | SCAN FIELD (mm) | MAX ENTRANCE Mag -aaral (mm) | Distansya sa Paggawa (mm) | Pag -mount Thread |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85X1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85X1 |
| SL-355-610-840- (15ca) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85X1 |
| SL-355-800-1090- (18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85X1 |
355nm beam expander
| Bahagi ng paglalarawan | Pagpapalawak Ratio | Input ca (mm) | Output Ca (mm) | Pabahay Dia (mm) | Pabahay Haba (mm) | Pag -mount Thread |
| BE3-355-D30: 84.5-3x-A (M30*1-M43*0.5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33: 84.5-5x-A (M30*1-M43*0.5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33: 80.3-7x-A (M30*1-M43*0.5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30: 90-8X-A (M30*1-M43*0.5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90.0 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30: 72-10x-A (M30*1-M43*0.5) | 10x | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0.5 |
355nm Mirror
| Bahagi ng paglalarawan | Diameter (mm) | Kapal (mm) | Patong |
| 355 Mirror | 30 | 3 | HR@355nm, 45 ° aoi |
| 355 Mirror | 20 | 5 | HR@355nm, 45 ° aoi |
| 355 Mirror | 30 | 5 | HR@355nm, 45 ° aoi |
